崗位職責：
1、 主導E-GUN金屬蒸鍍、SputterSIO2、PECVD機臺調試、工藝開發、工藝優化、Cpk提升等工作；
2、 主導分析E-GUN金屬蒸鍍、SputterSIO2、PECVD制程有關問題，降低工藝異常發生率，提高產品性能和良率；
3、 主導E-GUN金屬蒸鍍、SputterSIO2、PECVD工藝相關規范文件制定及評定；
4、 協助部門經理進行新產品平臺工藝建立，工藝項目持續改善；
5、 主導E-GUN金屬蒸鍍、SputterSIO2、PECVD區設備及材料供貨商合作改善與提升技術質量與成本；
6、 負責和公司內部工程、運營以及商務團隊合作一起對設備及工藝選擇、供應鏈管理以及客戶質量相關的問題做出判斷和建議；

任職要求：
1、 本科及以上，碩士優先考慮，材料、物理、化學、通信、機械、MEMS、光電子、微電子相關專業；
2、 熟悉半導體制造工藝流程，了解E-GUN蒸發、SputterSIO2、PECVD工作原理；
3、 半導體E-GUN蒸發、SputterSIO2、PECVD崗位5年及以上工作經驗，具有SAW,TCSAW,TFSAW等濾波器工廠，或六/八英寸Fab廠工作經驗者優先；
4、 有團隊合作精神，溝通能力強，有項目經驗、改善專題業績者優先；
5、 工作積極主動，責任心強，有較強的抗壓能力，接受偶爾的短期出差。